Femtosekunden-Faserlaser für Multiphotonen-Anwendungen

Merkmale: Der ELMO 780 XHP die jüngste Entwicklung des Herstellers innerhalb der ELMO-Serie industrietauglicher Femtosekundenlaser. Das System liefert mehr als 1 W Ausgangsleistung bei einer Wellenlänge von 780 nm mit Pulsdauern im Bereich von 100 fs und hat einen deutlich reduzierten Platzbedarf im Vergleich mit Lasern ähnlicher Leistungsklassen. Die patentierte „figure 9®“-Technologie gewährleistet höchste Stabilität, Reproduzierbarkeit und Zuverlässigkeit der Laserparameter. Das robuste, kompakte und energieeffiziente Design bietet vielfältige Vorteile im modularen Aufbau und ermöglicht somit eine einfache Anpassung der Laserkonfiguration für wissenschaftliche und industrielle Anwendungen. Der ELMO 780 XHP zeichnet sich durch eine integrierte DispersionsVorkompensation von bis zu –30 000 fs2 aus. Dadurch lassen sich kürzeste Pulse direkt am Probenort realisieren, auch nach Übertragung durch optische Fasern oder zusätzliche Optiken. Eine integrierte Ampli tudenmodulation erlaubt zudem eine schnelle und präzise Anpassung der Ausgangsleistung. Optional bietet ein zusätzlicher Ausgangsport Zugang zur fundamentalen Wellenlänge bei 1560 nm mit über 1 W durchschnittlicher optischer Leistung. 
Anwendungen: Typische Einsatzgebiete des ELMO 780 XHP sind Multiphotonen-Mikroskopie, Zwei-Photonen Polymerisation für 3D-Nanodruck und zeitaufgelöster Spektroskopie.