Blick auf die Analysestelle eines strukturierten Halbleiterwafers im Innern der Vakuumkammer einer ION-TOF-4 ToF-SIMS-Anlage. Die Analysestelle liegt im Fokus zweier Ionenkanonen und der zentral positionierten Extraktion des Massenspektrometers.
(Foto: M. Wahl, IFOS GmbH)
