Femtosekunden Faserlaser für Multiphotonen-Anwendungen
Angebot: ELMO 780 XHP Femtosekunden-Erbium-Laser mit hoher Spitzenleistung.
Merkmale: Der ELMO 780 XHP ist die jüngste Entwicklung innerhalb der ELMO-Serie von industrietauglichen Femtosekundenlasern. Das neue Modell liefert mehr als 1 W Ausgangsleistung bei einer Wellenlänge von 780 nm mit Pulsdauern im Bereich von 100 fs und benötigt nur einen Bruchteil des Platzbedarfs vergleichbarer Laser mit ähnlicher Leistung. Die patentierte „figure 9®“-Technologie gewährleistet höchste Stabilität, Wiederholbarkeit und Zuverlässigkeit der Laserparameter.
Das robuste, kompakte und energieeffiziente Design bietet vielfältige Vorteile im modularen Aufbau und ermöglicht somit eine einfache Anpassung der Laserkonfiguration für wissenschaftliche und industrielle Anwendungen.
Der ELMO 780 XHP zeichnet sich durch eine integrierte Dispersions-Vorkompensation von bis zu –30 000 fs2 aus. Dies ermöglicht kürzeste optische Pulse direkt am Probenort nach Zuführung über optische Fasern oder weitere Optiken. Die integrierte Amplitudenmodulation erlaubt zudem eine sehr schnelle Anpassung der optischen Ausgangsleistung. Optional bietet ein zusätzlicher Ausgangsport Zugang zur fundamentalen Wellenlänge bei 1560 nm mit über 1 W durchschnittlicher optischer Leistung.
Anwendungen: Der ELMO 780 XHP ist geeignet für Anwendungen wie Multiphotonen-Mikroskopie, Zwei-Photonen Polymerisation für 3D-Nanodruck und zeitaufgelöster Spektroskopie.
