Heidelberg Instruments DWL 66⁺: Laserlithographie mit 200 nm Auflösung
Angebot: Laserlithographie mit 200 nm Auflösung und 65.536 Graustufen
Merkmale: Das DWL 66⁺ bietet jetzt eine Auflösung von 200 nm und ermöglicht Graustufenbelichtungen mit bis zu 65.536 Intensitätsstufen, wodurch für die Laserlithographie ein neuer Standard gesetzt und ihr Anwendungsbereich in Forschung und Entwicklung erweitert wird.
Der neue Hochauflösungsmodus, Write Mode XR, bietet eine bisher unerreichte Kombination aus Auflösung, Qualität und Geschwindigkeit. Die Fähigkeit, Strukturen mit einer minimalen Größe von 200 nm zu erzeugen, ermöglicht die Herstellung hochkomplexer Mikro- und Nanostrukturen. Anwendungen in der Quantentechnologie, Optik und Photonik, die zuvor zeitaufwendige Elektronenstrahl-Lithographie erforderten, lassen sich nun deutlich schneller und einfacher realisieren. Diese Weiterentwicklung der Laserlithographie verkürzt Entwicklungszyklen und entlastet kostenintensive Elektronenstrahlsysteme für anspruchsvollere Aufgaben.
Ergänzt wird die hohe Auflösung durch die verbesserte Graustufen-Lithographie des Systems. Mit bislang unerreichten 65.536 Intensitätsstufen kann das DWL 66⁺ komplexe 2,5D-Mikrostrukturen wie Mikrolinsen oder Reflexionsgitter und andere mikrooptische Bauelemente mit sehr geringer Oberflächenrauhigkeit in bis zu 150 μm dicken Fotolacken erzeugen.
Mit über 30 Jahren kontinuierlicher Entwicklung und mehr als 400 installierten Systemen ist das DWL 66+ eine bewährte, robuste und äußerst flexible Plattform für Forschung und Entwicklung sowie Rapid Prototyping.
