Kompakte Mikroplasmaquelle für lokalisiertes Plasma in UHV-Anlagen
Angebot: Die „Flexible Microplasma Source“ FMP ist eine kompakte und hocheffiziente Mikrowellen-Plasmaquelle, die ein hochreines, lokalisiertes, freies Mikroplasma direkt an der Austrittsöffnung oder alternativ innerhalb einer Mikrokavität erzeugen kann.
Merkmale: Die FMP ist für UHV-Kammern und MBE-Systeme ausgelegt und wird standardmäßig auf einem DN40CF-Flansch geliefert. Für höhere Leistungen ist eine wassergekühlte Version auf DN63CF verfügbar. Typischerweise wird aufgrund der hohen Effizienz und kleinen Plasmagröße mit sehr niedrigen Leistungen von 5 bis 100 W und Gasflüssen von 0,3 bis 10 sccm gearbeitet.
Die FMP erzeugt ein „kaltes“ Nichtgleichgewichts-Mikroplasma mit niedriger Ionenenergie und hoher Prozessstabilität. Sie unterstützt Prozessgase wie N₂, O₂, Ar oder H₂ als Multigasvariante. Durch den einfachen Austausch der Quellenspitze lässt sie sich für spezifische Anwendungen optimieren. Die Quelle zeichnet sich durch einfache Handhabung, zuverlässige Plasma-Zündung und einen kompakten Aufbau aus. Zur Prozesskontrolle ist eine Photodiode integriert. Der optische Zugang erlaubt zudem den Anschluss eines Spektrometers. Optional ist es möglich, einen Ionensensor als Langmuir-Sonde einzusetzen.
Anwendungen: Die FMP eignet sich für kontrolliertes Schichtwachstum (z. B. GaN) bei niedrigen bis moderaten Wachstumsraten, Oxid-MBE (z.B. Ga₂O₃), substratschonende Reinigungsprozesse und Oberflächenaktivierung. Einsatzgebiete sind Dünnschichttechnologie, Materialforschung und Halbleiterphysik, insbesondere bei hohen Anforderungen an Reinheit, geringer thermischer Belastung und präziser Prozessführung.
