Deutscher Zukunftspreis 2020 für EUV-Lithographie
Renommierte Auszeichnung für Entwickler von Zeiss, Trumpf und Fraunhofer.
Gestern wurde der Deutsche Zukunftspreis – Preis des Bundespräsidenten für Technik und Innovation – durch Frank-Walter Steinmeier in Berlin verliehen. Ausgezeichnet wurde das Team um Peter Kürz von Carl Zeiss, Michael Kösters von Trumpf und Sergiy Yulin vom Fraunhofer Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik in Jena für ihre Beiträge zur Erforschung, Entwicklung und Industrialisierung der EUV-Lithographie. Diese Maschinen ermöglichen durch den Einsatz von extrem ultravioletten Licht die Chipherstellung mit den bisher kleinsten Strukturen. Der Zukunftspreis ist mit 250.000 Euro dotiert.
„Diese großartige Auszeichnung würdigt den Technologiesprung in der Mikroelektronik, den die Forscherinnen und Forscher gemeinsam mit der niederländischen Firma ASML erreicht haben. Sie konnten mit ihrer Forschung zur Leistungssteigerung von Mikrochips beitragen und so einen neuen globalen Standard in einer Schlüsseltechnologie der Digitalisierung setzen. Dieser Erfolg zeigt, dass Deutschland und Europa gemeinsam technologische Souveränität erreichen können“, sagt Bundesforschungsministerin Anja Karliczek. Ihr Ministerium investierte etwa 96 Millionen Euro in die Entwicklung dieser neuen Technologie.
Die EUV-Lithographie ist eine Weiterentwicklung der optischen Lithographie, bei der mit Hilfe von Laserlicht, welches durch ein spezielles System von Linsen und Spiegeln gelenkt wird, Strukturen für die Schaltkreise auf die Silizium-Wafer aufgebracht werden. Bei der EUV-Lithographie werden durch Nutzung von Licht im extrem ultravioletten Spektrum wesentlich kleinere Strukturen in der Größenordnung von wenigen Nanometern erreicht. Dies steigert die Leistungsfähigkeit der Chips. Die EUV-Lithographie ist damit die Krönung des Moore’schen Gesetzes, das seit über 50 Jahren die Leistungssteigerung von Mikrochips durch immer kleinere Strukturgrößen ermöglicht. Sie bildet eine durch über 2.000 Patente abgesicherte Zukunftstechnologie, die die Basis für den künftigen technischen Fortschritt und die Digitalisierung unseres Alltags legt.
Um das EUV-Licht zu nutzen, haben die Forscher ein lithographisches System entwickelt, das ausschließlich aus Spiegeln besteht und an die Nutzung im Hochvakuum angepasst ist. Dabei erfüllen die Spiegel enorm hohe Anforderungen: Schon Unebenheiten von einem Zehntel Nanometern je Quadratmeter würden die Funktionsfähigkeit des Systems stark beeinträchtigen. Um das EUV-Licht zu erzeugen, hat ein Forscherteam bei Trumpf den stärksten industriellen CO2-Laser der Welt entwickelt. Durch zwei kurz aufeinander folgende Laserpulse auf feine Zinntröpfchen wird ein Plasma erzeugt, das Licht in der notwendigen Wellenlänge generiert. Die beiden Komponenten werden von der niederländischen Firma ASML zu einem Gesamtsystem integriert. Sie produziert und liefert heute die weltweit einzigen Geräte für die EUV-Lithographie. Zusammen mit weiteren Zulieferern tragen Zeiss und Trumpf etwa die Hälfte des Wertes eines 100 bis 120 Millionen Euro teuren EUV-Geräts bei.
Trumpf Chief Technology Officer Peter Leibinger sagt: „Wir freuen uns sehr, dass Michael Kösters, Peter Kürz und Sergiy Yulin von Trumpf, Zeiss und dem Fraunhofer IOF den Deutschen Zukunftspreis gewonnen haben. Sie stehen mit ihrem Erfindergeist, Technikverständnis, Durchhaltevermögen und gutem Miteinander geradezu beispielhaft dafür, wie sich durch starke Partnerschaften Zukunftstechnologien zur Industriereife entwickeln lassen. Das Mammut-Projekt EUV-Lithographie schafft auch im Corona-Jahr Arbeitsplätze und sorgt darüber hinaus für eine Vorreiterrolle Europas bei der Herstellung modernster Mikrochips.“
„Ich gratuliere den Forschern von Zeiss, Trumpf und dem Fraunhofer IOF zu dieser großartigen Auszeichnung ihrer exzellenten Arbeit. Sie haben mit der EUV-Lithographie eine Technologie entwickelt, die weltweit für einen Digitalisierungsschub sorgen wird und damit auch den Grundstein für weitere Innovationen legt“, sagt Fraunhofer-Präsident Reimund Neugebauer. „Wir freuen uns gemeinsam mit unseren Partnern sehr über die Auszeichnung des Bundespräsidenten, die eine enorm aufwändige Entwicklungsleistung und ihre Übersetzung in eine auf dem Weltmarkt dominierende Technologie würdigt“, sagt Markus Weber, Mitglied des Vorstands der Zeiss Gruppe. „Zeiss steht für optische Höchstleistung und Präzision. Darauf kommt es in der Chipfertigung von jeher an. Die EUV-Technologie ermöglicht als Sprunginnovation weiterhin große Fortschritte in der Digitalisierung in Wirtschaft und Gesellschaft. Wir sind stolz darauf, gemeinsam mit unserem strategischen Partner ASML, Trumpf und Fraunhofer dazu beizutragen.“
BMBF / Zeiss / Trumpf / JOL
