Gut, besser, am besten?

Hochschulen werden weltweit immer wieder nach unterschiedlichen Kriterien verglichen. Kürzlich gab das jährlich erscheinende Shanghai-Ranking seine Ergebnisse bekannt. Zumindest wenn es nach diesem Ranking geht, scheinen sich die besten Hochschulen in den USA zu befinden, allein 31 der besten 50 sind hier verortet, zum 16. Mal in Folge angeführt von der Harvard University. Beste kontinentaleuropäische Hochschule ist die ETH Zürich auf Platz 19, beste deutsche die Uni Heidelberg auf Platz 47, gefolgt von der TU München auf Platz 48.

Bereits im Juli war das nach Fächern sortierte Shanghai-Ranking erschienen. In der Physik liegt auf Platz eins das Massachusetts Institute of Technology (MIT), gefolgt von der University of California, Berkeley, den Hochschulen in Stanford, Tokio, Princeton und Chicago. Auf Platz 7 befindet sich die Harvard University, auf den Rängen acht bis 10 liegen das California Institute of Technology, die Universität Manchester und die Universität Paris-Süd. Die beste deutsche Hochschule in Physik ist die LMU München auf Platz 23. Ebenfalls unter den Top-100 sind Heidelberg, das Karlsruher Institut für Technologie, die Unis Hamburg und Mainz sowie die TU München.

Wie aussagekräftig ein Ranking ist, hängt jedoch von seiner Methodik ab. Diese variiert stark von Ranking zu Ranking, ebenso wie die Gewichtung der einzelnen Indikatoren. Entsprechend unterschiedlich sind jeweils die Ergebnisse. Für das Shanghai-Ranking nach Fächern wurden unter anderem folgende Kriterien herangezogen: die Anzahl der Veröffentlichungen im Web of Science und in führenden Fachzeitschriften, die Anzahl der Zitierungen, die internationale Zusammenarbeit gemessen an Veröffentlichungen mit Autoren aus mindestens zwei anderen Ländern sowie die Anzahl der Nobelpreise in Physik, die Mitarbeiter der jeweiligen Institution bekommen haben. Auch die Gewichtung der einzelnen Indikatoren ist interessant. So zählt die Anzahl der Nobelpreise beispielsweise ebenso viel, wie die der Veröffentlichungen.

Anja Hauck