Kleinste Strukturen – Fraunhofer-Lithographie-Workshop bündelte internationale Expertise
Das Fachtreffen mit dem Schwerpunkt Modellierung adressierte ein internationales Publikum aus Industrie und Forschung und legte Wert auf einen deutlichen Praxisbezug der behandelten Fragestellungen.
Die Photolithographie wird vor allem in der Halbleiterindustrie bei der Produktion von Mikrochips eingesetzt. Sie ist dort das industrielle Standard-Verfahren zur Herstellung kleiner und kleinster Strukturen im Mikro- und Nanometerbereich und daher auch wirtschaftlich von großer Bedeutung. Durch die stetige Miniaturisierung in der Mikroelektronik und die damit verbundene Verkleinerung der Strukturgrößen, etwa für Transistoren, ergeben sich für die Lithographie ständig neue technologische Herausforderungen. Wissenschaftler, Optik- und Gerätehersteller und Chipfabrikanten arbeiten dabei schon heute hart an den Grenzen des physikalisch Möglichen. Die erzeugten Strukturen sind teilweise kleiner als die Wellenlänge des verwendeten Lichts. Computersimulationen sind deshalb ein unerlässliches Werkzeug, um Fragestellungen zu beantworten, deren Klärung im Experiment zu teuer, zu zeitaufwendig oder schlicht technisch unmöglich wäre.
Abb.: Zum neunten Mal folgten Lithographie-Experten aus aller Welt der Einladung des Fraunhofer IISB zum „Fraunhofer IISB Lithography Simulation Workshop“. (Bild: IISB)
Im Mittelpunkt des Lithographie-Workshops am 15.-17. September 2011 standen die neuesten Forschungsaktivitäten und zukünftigen Entwicklungen im Bereich der Lithographie und der Lithographiesimulation sowie die Grenzen aktueller Simulationsmodelle und deren notwendige Weiterentwicklung. Die Experten nutzten die Gelegenheit zum Erfahrungs- und Ideenaustausch auf den Gebieten der physikalischen Modellierung, der numerischen Techniken sowie der Geräte und Prozesse in der Halbleiterfertigung. Neben Fragen zur EUV (Extreme Ultra Violet)-Lithographie boten auch bislang nicht im Detail geklärte Vorgänge bei der Belichtung von Photolack reichlich Stoff für die wissenschaftliche Diskussion. Weitere Themenschwerpunkte waren Lithographie für die Mikro- und Nanooptik sowie alternative Anwendungen der Lithographiesimulation.
Der „9th Fraunhofer IISB Lithography Simulation Workshop” wurde – wie jedes Jahr – von der Arbeitsgruppe Lithographiesimulation des in Erlangen ansässigen Fraunhofer IISB ausgerichtet. Das bis auf den letzten Platz ausgebuchte Expertentreffen hatte Teilnehmer aus Amerika, Asien und Europa. Die Besonderheit des Workshops liegt stets in der Gesamtheit von fachlicher Ausrichtung, außergewöhnlichem Umfeld und reichlich Möglichkeiten für intensive, kreative Diskussionen und persönlichen Austausch.
IIZB / OD
