06.10.2003

Carl Zeiss SMS GmbH gestartet

Mit über 80 Mitarbeitern konzentriert sich die neue Tochtergesellschaft der Carl Zeiss SMT AG auf Systeme zur Qualitätssicherung und Prozessüberwachung für die Halbleiterindustrie.

Jena, Oberkochen - Zum 01.Oktober 2003 ist die Carl Zeiss SMS GmbH an den Start gegangen. Mit über 80 Mitarbeitern konzentriert sich die Tochtergesellschaft der Carl Zeiss SMT AG auf Systeme zur Qualitätssicherung und Prozessüberwachung für die Halbleiterindustrie.

Das Unternehmen geht aus der Carl Zeiss Microelectronic Systems GmbH (MES) hervor, die zum 01. Oktober 2003 in Carl Zeiss SMS GmbH (Semiconductor Metrology Systems) umbenannt wurde. Die SMS bündelt Kompetenzen der ehemaligen MES mit Produkten und Technologien der Schwestergesellschaft LEO Elektronenmikroskopie sowie des Geschäftsfeldes Wafer-Inspektions-Optiken (WIO).

Während die Inspektionssysteme der ehemaligen MES und des Geschäftsfeldes WIO mit Licht arbeiten, fußen die Produkte der LEO auf Elektronenstrahltechnologie. Der Geschäftsführer der Carl Zeiss SMS GmbH, Dr. Dirk Stenkamp, setzt große Hoffnungen auf die neue Gesellschaft: „In der neuen, gezielt auf den Halbleitermarkt ausgerichteten Struktur können wir Synergieeffekte zwischen licht- und elektronenoptischen Technologien optimal nutzen und unseren Kunden damit einen besonderen Nutzen bieten.“

Weichenstellung für erfolgreichen Start
Erste Weichen für einen erfolgreichen Start der SMS wurden bereits im Vorfeld gestellt. Anfang September gaben die Carl Zeiss SMT und KLA-Tencor (San Jose, Kalifornien), einer der weltweit größten Zulieferer der Halbleiterindustrie, eine strategische Kooperation bekannt. Gegenstand der Kooperation ist die Entwicklung einer Software-Schnittstelle zwischen den Inspektionssystemen der beiden Unternehmen. Diese Schnittstelle ist notwendig bei der gemeinsamen Weiterentwicklung von Inspektionssystemen zur vollautomatisierten Fehlererkennung von Photomasken. Photomasken sind wesentliche Werkzeuge bei der Herstellung von Mikrochips. Sie enthalten die Strukturen der Leiterbahnen von Chips.

Darüber hinaus besteht bereits seit über zwei Jahren ein Projekt zur Entwicklung eines Systems das mit Elektronenstrahlen arbeitet. Es ist gedacht für die schnelle Inspektion von Chips mit extrem kleinen Strukturen. Durch die voranschreitende Miniaturisierung der Chipstrukturen erreicht die bisher mit Lichtmikroskopen durchgeführte Inspektion in absehbarer Zeit ihre Grenzen. An ihrer Stelle kann das auf Elektronenstrahlen basierende System treten. Für dieses öffnet sich ein Anwendungsgebiet mit guten Marktprognosen.

Quelle: Zeiss

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