23.10.2015

Diamanten und Dünne Schichten

Entwicklung modernster Hochleistungswerkstoffe am Center for Coatings and Diamond Technologies.

Diamant hat sich schnell als einer der erstaunlichsten Werkstoffe entpuppt. Durch seinen Einsatz erreichen elektrische, mechanische und auch thermische Anwendungen in der Industrie bisher unbekannte Extreme. Ähnliche Bedeutung haben neue, mit moderner Beschichtungstechnologie aufgebrachte Dünnschichtmaterialen, die Werkstücken in vielfältigen Anwendungen zu besserem Verschleiß- und Korrosionsschutz verhelfen oder ihnen gar ganz neue Funktionalität verleihen. An dem gemeinsam von der Michigan State University (MSU) und dem Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik (IWS) gegründeten Center for Coatings and Diamond Technologies (CCD) sollen diese Ganzlichter der Technologie weiterentwickelt werden.

Abb.: Freuen sich über ihr neues Arbeitsumfeld in East Lansing, Michigan: Timothy Grotjohn, F&E Direktor des neuen Center for Coatings and Diamond Technologies, und Thomas Schuelke, geschäftsführender Direktor, hinter einem Koffer voller Hochtechnologie. (Bild: G.L. Kohuth)

Die neue fünf Millionen Dollar teure Einrichtung erweitert die bereits an der MSU bestehenden Fraunhofer Laboratorien um rund 1400 Quadratmeter und eine neue Diamantproduktionsanlage, um den gestiegenen Anforderungen an Personal und Projekten gerecht zu werden. Nach der Fertigstellung soll der Forschungsbetrieb jährlich Einnahmen in Höhe von sieben Millionen Dollar generieren.

Als Hauptinvestitionspartner verfügt das Fraunhofer-IWS, dessen Forschungsaufwendungen in 2014 etwa 27 Millionen Euro betrugen, damit über zwei Standorte US-Bundesstaat Mischigan: das Center for Laser Applications (CLA) in Plymouth und nun das Center for Coatings and Diamond Technologies (CCD) in East Lansing. Damit kann es seine Kompetenz in der Grundlagenforschung und bei der Entwicklung von Verfahren und Anlagen im Bereich der Laser- und Oberflächentechnologie auch in Übersee weiterentwickeln.

„Die Michigan State University und unser langjähriger Kooperationspartner Fraunhofer USA werden ihren Laborraum verdreifachen und Arbeitskräfte sowie Sach- und Investitionsmittel entsprechend aufstocken.“, sagt Leo Kempel, Dekan des MSU College of Engineering, und freut sich weiter: „Diese Expansion wird auch die Möglichkeiten für Studenten im Vor- und Hauptstudium in industriell aufstrebenden Disziplinen erweitern.“

Der geschäftsführende Direktor des CCD, Thomas Schuelke, und F&E-Direktor Timothy Grotjohn werden das neue MSU-Fraunhofer Zentrum führen. Beide arbeiten als Professoren am Institut für Elektro- und Computertechnik des MSU College für Ingenieurwissenschaften. Die MSU und Fraunhofer blicken in East Lansing bereits auf eine zwölfjährige Zusammenarbeit zurück, in der sie sich seit der Einrichtung des ersten gemeinsamen Labors unter Jes Asmussen zu Vorreitern in der Entwicklung diamantbasierter Halbleiter mit breitem Bandabstand für die Leistungselektronik entwickelt haben.

IWS / LK

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