Plasmachemisches Ätzen und Beschichten bei Atmosphärendruck
Anwendungen in der kristallinen Siliziumphotovoltaik
Zur industriellen Herstellung waferbasierter kristalliner Silizium-Solarzellen kommt eine Vielzahl unterschiedlichster Technologien zum Einsatz. Die Kombination dieser Technologien erfordert ein aufwändiges Handling der Wafer, was nicht nur die Investitionskosten, sondern auch die Gefahr des Waferbruchs erhöht. Der Einsatz von Plasmatechnologien bietet die Möglichkeit, alle Prozessschritte in der Herstellungskette
kristalliner Siliziumsolarzellen ohne Nutzung nasschemischer Bäder oder Vakuumprozesse durchzuführen. Am Fraunhofer IWS wurden alle zur Solarzellenfertigung erforderlichen Ätzprozesse sowie die Abscheidung der Passivierungs- und Antireflexschicht mit Hilfe von Atmosphärendruck-Plasmaprozessen erfolgreich demonstriert.
Elena Lopez, Dorit Linaschke, Birte Dresler, Ines Dani, Christoph Leyens, Eckhard Beyer
