Zentrales Element von Faserlasern sind Glasfasern mit einem dotierten, aktiven Kern und einem mikrostrukturierten Mantel. (vgl. S. 29)
Physik Journal 6 / 2005
Inhaltsverzeichnis
Aktuell
• 6/2005 • Seite 12
USA
· Kernphysik droht Standortschließung· ''Wissenschaftliche'' Ausgewogenheit· Kongress appelliert an Bush· Radioaktive Probleme· Patentflut für Nanotechnologie
High-Tech
Im Brennpunkt
Leserbriefe
• 6/2005 • Seite 24
Schleichende Privatisierung
3 Leserbriefe zu: ''Studiengebühren als Chance'', April 2005, S. 51
Überblick
• 6/2005 • Seite 29
Faserlaser
Vielfältige Anwendungen von der Grundlagenforschung bis zur Materialbearbeitung erfordern heutzutage Laserkonzepte mit den unterschiedlichsten Strahlparametern. Hier bieten Faserlaser, genauer gesagt Faserverstärkersysteme, eine interessante Alternative, die zur Vereinfachung der Lasersysteme beiträgt. Anstatt für jeden Parameterbereich ein eigenes komplexes Hochleistungssystem zu entwickeln, erlauben es diese Systeme, die gewünschten zeitlichen und spektralen Eigenschaften der Laserstrahlung bei kleinen Leistungen zu erzeugen und dann auf die gewünschte Leistung bzw. Pulsenergie zu verstärken. Gleichzeitig lassen sich intrinsische, lineare und nichtlineare Eigenschaften der Fasern zur spektralen und zeitlichen Pulsformung einsetzen. Hierdurch ermöglicht der Faserlaser kompakte anwendungstaugliche Kurzpulsquellen mit hoher Pulsenergie und mittlerer Leistung.
• 6/2005 • Seite 37
25 Jahre Quanten-Hall-Effekt
Für die unerwartete Entdeckung im Frühjahr 1980, dass der Hall-Widerstand in einem zweidimensionalen Elektronengas quantisierte Werte annimmt, wurde 1985 der Nobelpreis für Physik vergeben. Erst in den letzten Jahren ist es gelungen, eine kohärente Erklärung dafür zu entwickeln, dass diese quantisierten Werte, die nur von Fundamentalkonstanten abhängen, mit großer Genauigkeit an Proben aus unterschiedlichen Materialien und von unterschiedlicher Geometrie gemessen werden.
• 6/2005 • Seite 45
Oxide - Tausendsassas für die Elektronik
Dank gewaltiger Fortschritte der Dünnschichttechnik ist es seit einem Jahrzehnt möglich, aus einer Vielzahl von Materialien hochwertige Schichten und Multilagenstrukturen zu wachsen. Die für elektronische Bauelemente zur Verfügung stehende Materialpalette hat sich dadurch wesentlich verbreitert und ist inzwischen außerordentlich reichhaltig. Die mit Oxiden erzielbaren Funktionalitäten sind sehr vielfältig und umfassen mit Piezoelektrizität, Sensoreigenschaften und elektrooptischem Verhalten sogar die Übergangsbereiche zur Mechanik, Optik, Chemie und Biologie. Die Halbleiterindustrie nutzt schon jetzt funktionale Oxide, beispielsweise Ferroelektrika für nichtflüchtige Speicher, und im Jahr 2007 sollen in den Transistoren der Laptops Hafnium-basierte Oxide als Gate-Dielektrika eingesetzt werden.
