24.02.2017

Zinn in der Photodiode

Wichtiger Schritt zur optischen On-Chip-Daten­über­tragung gelungen.

Schon lange suchen Wissenschaftler nach einer geeigneten Lösung, um optische Kompo­nenten auf einem Computer­chip zu inte­grieren. Doch Silizium und Germa­nium allein – die stoff­liche Basis der Chip-Produktion – sind als Licht­quelle kaum geeignet. Forscher des FZ Jülich haben jetzt gemein­sam mit inter­natio­nalen Partnern eine Diode vorge­stellt, die neben Silizium und Germa­nium zusätz­lich Zinn enthält, um die optischen Eigen­schaften zu ver­bessern. Das Beson­dere daran: Da alle Elemente der vierten Haupt­gruppe ange­hören, sind sie mit der beste­henden Silizium-Techno­logie voll kompa­tibel.

Abb.: Zinnhaltige Photodiode. (Bild: FZ Jülich)

Für lange Strecken sind optische Signalwege längst Standard, weil diese im Vergleich zur elek­trischen Über­mitt­lung nur einen Bruch­teil der Energie erfor­dern. Doch die beste­henden Lösungen sind kaum geeignet, Daten auf optischem Weg direkt auf dem Chip zwischen Pro­zessor und Speicher oder zwischen den Pro­zessor­kernen eines Servers oder PCs hin und her zu bewegen. Die Materi­alien für Halb­leiter­laser und -dioden, III-V-Halb­leiter, gehören anderen chemischen Haupt­gruppen an als Silizium, aus dem Computer­chips gefer­tigt werden. Daraus resul­tieren unter­schied­liche Gitter­struk­turen, die dazu führen, dass sich der­artige Bau­ele­mente nur sehr kost­spielig und ineffi­zient inte­grieren lassen.

Silizium und Germanium selbst gehören dagegen zu den indirekten Halb­leitern. Auf­grund der energe­tischen Zustände der Elek­tronen, die quanten­physi­ka­lisch möglich sind, sind sie kaum in der Lage, Photonen abzu­geben oder aufzu­nehmen. Durch den Zusatz von Zinn verän­dern sich die elek­tro­nischen Eigen­schaften des Kristalls. Die resul­tierende Ver­bin­dung wird zu einem direkten Halb­leiter, der Photonen direkt und daher sehr effi­zient absor­bieren und emit­tieren kann.

Weil Zinn wie Silizium und Germanium der vierten Haupt­gruppe des Perioden­systems ange­hört, lässt sich die Silizium-Germa­nium-Zinn-Diode, kurz SiGeSn-Diode, direkt während der Chip-Produk­tion auf Silizium auf­bringen. Die Wissen­schaftler haben die SiGeSn-Diode aus einem GeSn/SiGeSn-Schicht­system herge­stellt. Die Sand­wich-Bau­weise steigert die Effi­zienz, mit welcher der inji­zierte Strom in Licht umge­wandelt wird. Über die schritt­weise Verän­derung des Silizium- und Zinn-Gehalts gelang es den Forschern zudem, die optische Wellen­länge in einem Bereich von 2 bis 2,6 Mikro­meter anzu­passen.

Mit der Dioden-Entwicklung sind die Forscher der Entwicklung einer Infra­rot-Licht­quelle für die On-Chip-Daten­über­tragung einen Schritt näher gekommen. Darüber hinaus könnte das Material weitere Anwen­dungen wie etwa Photo­detek­toren ermög­lichen. Bereits im Januar 2015 hatten Forscher des FZ Jülich die grund­sätz­liche Eignung der SiGeSn-Verbin­dung anhand eines Laser-Bau­steins demon­striert, der sich direkt auf Silizium-Chips auf­bringen lässt. Der damalige Laser ließ sich aller­dings nicht elek­trisch, sondern nur optisch zur Erzeugung von Laser­licht anregen. Seine Funktion war zudem auf tiefe Tempe­ra­turen von bis zu minus 183 Grad Celsius beschränkt. Die aktuell vorge­stellte SiGeSn-Photo­diode funk­tio­niert dagegen auch bei Raum­temperatur.

FZJ / RK

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