25.07.2018

Hohe Auszeichnung für Gemeinschaftsarbeit

Hans-Pulker Award für neuartige Konzepte zur in situ Charakterisierung und Steuerung von Plasmadepositionen.

High-Tech-Oberflächen- und Schicht­techno­logien für Glas und Kunststoffe stehen im Fokus der im Zwei­jahres­rhyth­mus statt­finden Inter­national Confe­rence on Coatings on Glass and Plastics ICCG. In diesem Jahr tauschten sich nam­hafte Experten aus Industrie und Forschung in Würzburg darüber aus, welche Ansätze diese Techno­logien zur Lösung der großen Heraus­forderungen unserer Zeit bieten. Und so standen regene­rative Energien, nach­haltiges Bauen und Wohnen, umwelt­freund­liche Mobilität, Ressourcen­effizienz und Wert­stoff­kreisläufe sowie Digi­tali­sierung und Auto­mati­sierung im Mittel­punkt des Pro­gramms, dessen bester Beitrag seit 2014 mit dem Hans-Pulker Award ausge­zeichnet wird.

Abb.: Dr. Jens Harhausen –  Erstautor des besten Konferenzbeitrags der ICCG12 – freut sich über die Auszeichnung. (Bild: INP)

In diesem Jahr machte die aus dem Inter­national Organizing Committee der ICCG12 beste­hende Jury den Beitrag „Novel concepts for in situ charac­terization and control of plasma ion assisted deposition processes“ der Autoren Jens Harhausen, Rüdiger Foest, Olaf Stenzel, Steffen Wilbrandt, Christian Franke und Ralf Peter Brinkmann als „best paper“ aus. Die Wissen­schaftler des INP Greifs­wald, des Fraun­hofer IOF und der Ruhr-Uni­versi­tät Bochum unter­suchten in ihrer Gemein­schaftsarbeit bisher nur unzu­reichend bekannte Kenn­größen beschich­tender Plasmen und leitet daraus Strategien zur Ver­bes­serung der in der Indus­trie weit ver­breiteten Prozesse ab.

Der Hans-Pulker Award erinnert an das Schaffen des Inns­brucker Professors Hans Pulker, der sich zeitlebens sowohl als Industrie­physiker als auch als Hochschullehrer für die Techno­logie dünner – insbe­sondere auch optischer – Schichten engagierte und unter anderem auch die Zeit­schrift Vakuum in Forschung und Praxis für nahezu 25 Jahre als Kurator geför­dert und beraten hat.

INP / LK

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