30.03.2023

Kompakte Quelle für extremes UV

Robert Klas erhält den Hugo-Geiger-Preis für Entwicklung eines kompakten EUV-Moduls.

Die Zukunft hat eine Farbe: Sie ist extrem-ultraviolett. Denn mithilfe von EUV-Licht lassen sich unter anderem kleinere und leistungs­fähigere Mikrochips als je zuvor herstellen. Doch die weitere Forschung steht vor einem Problem: Experimente mit laser­ähnlichem EUV-Licht können bisher meist nur an teuren Groß­forschungs­anlagen betrieben werden. Das will der Jenaer Robert Klas ändern. Er hat ein kompaktes EUV-Laser­modul entwickelt, mit dessen Hilfe sich dieses besondere Licht deutlich leichter und kosten­günstiger erzeugen lässt. Besondere Anwendungs­potenziale sind in der Halbleiter­fertigung sowie der Mikroskopie denkbar. Dafür ist Robert Klas nun mit dem Hugo-Geiger-Preis ausgezeichnet worden.

 

Abb.: Robert Klas ist Preisträger des Hugo-Geiger-Preises 2023. Er hat eine...
Abb.: Robert Klas ist Preisträger des Hugo-Geiger-Preises 2023. Er hat eine kompakte Hoch­leistungs-EUV-Quelle entwickelt, die auf einen einzelnen Labor­tisch passt. (Bild: Fh.-IOF)

Klas hat im Rahmen seiner Doktorarbeit ein kompaktes Modul zur Erzeugung laserähnlichen EUV-Lichts entwickelt. Wo bisher Forschungs­anlagen wie Synchrotrone nötig sind, präsentiert Klas mit seiner Dissertation nun eine neue und effiziente Methode, um laser­ähnliches EUV-Licht in einer Anlage von der Größe eines Labor­tisches zu erzeugen.

Mit seiner Doktorarbeit, die in Kooperation zwischen der Friedrich-Schiller-Universität Jena, dem Helmholtz-Institut Jena und dem Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF entstanden ist, liefert Klas die bislang leistungs­stärkste laser­ähnliche EUV-Quelle im Labormaßstab mit einer Durchschnitts­leistung von zehn Milliwatt – das ist hundertmal mehr Leistung als noch zu Beginn seiner Promotion in vergleichbaren Systemen üblich. Damit kann die EUV-Forschung in Zukunft unabhängig von wenigen, aufwändig zu unterhaltenden Groß­anlagen werden. Noch dazu kostet der kompakte Aufbau nur einen Bruchteil.

Mit seiner Arbeit stellt sich Klas dabei einer wesentlichen Herausforderung der Laseroptik. Denn hier besagt ein wichtiger Grundsatz: Laser-Strahlung ist umso schwerer zu erzeugen, je kürzer seine Wellenlängen sind. Mit seiner Arbeit bewegt sich der Physiker im Wellenlängenbereich von zehn bis fünfzig Nanometern.

Extrem-ultraviolettes Licht lässt sich nur extrem schwer als Laserlicht erzeugen. Um das Problem zu lösen, nutzt Klas moderne Hochleistungs-Ultrakurzpulslaser. Diese werden mittels des Prozesses der Erzeugung hoher harmonischer Strahlung in EUV-Licht konvertiert. Dabei fokussiert Klas den Hoch­leistungs-Laser zunächst in einem Edelgas. Hierbei werden Elektronen innerhalb von wenigen 100 Attosekunden beschleunigt. Aus den in dieser unvorstellbar kurzen Zeit beschleunigten Elektronen ergibt sich durch die Rekombination mit ihrem Mutter-Ion anschließend die kostbare EUV-Strahlung.

Die große Herausforderung dabei ist, die freigesetzte Strahlung kohärent zu überlagern, also so zu kontrollieren, dass sich ihre Wellenberge im extremen Ultraviolett-Spektrum addieren und am Ende zu einem Laserstrahl bündeln lassen. Durch die korrekte Wahl der Laser­parameter sowie Gasdichte ist es ihm gelungen, eine EUV-Strahlung mit laserähnlichen Parametern höchsteffizient zu erzeugen. Was in Kombination mit Hochleistungs-Treiberlasern zu einer signifikanten Leistungs­steigerung im EUV führte.

Dass seine Arbeit die weitere Erforschung sowie Anwendung des EUV-Lichts wesentlich vereinfachen wird, davon ist der Wissenschaftler überzeugt: „In Zukunft ist zu erwarten, dass die Ergebnisse meiner Doktorarbeit die Entwicklung in vielen wichtigen Bereichen wie der Energie- und Speicher­effizienz von Chips, Biologie sowie Medizin vorantreiben werden.“

Bereits während seiner Forschung hat Klas dabei erste Anwendungs­potenziale für seine neuartige EUV-Quelle im Labor­maßstab erprobt. Im Besonderen hat er sich dabei im Austausch mit anderen Forschern der Mikroskopie zugewandt – speziell der Bildgebung im Bereich winziger Nanometer. „Mit einer Belichtungswellenlänge von 13,5 Nanometern haben wir eine Auflösung von 18 Nanometern realisiert“, berichtet er. Zum Vergleich: Konventionelle Licht­mikroskope schaffen nur eine Auflösung von knapp 500 Nanometern. Wie unfassbar detailgenau die durch EUV-Licht ermöglichte Mikroskopie wird, erläutert Klas mit einem weiteren Beispiel: „In einem Experiment haben wir ein sogenanntes Field of view in der Größe von 100 auf 100 Mikrometern erreicht. Das heißt, wir können innerhalb eines Bildes vergleichsweise die Größe eines Fußballfeldes abdecken und darin eine Ein-Euro-Münze finden.“

Eine weitere Neuerung: Bei einer EUV-basierten Mikroskopie lassen sich farbige Bilder von einer zu untersuchenden Probe erstellen. Auf diese Weise können die Forscher „in eine Zelle hineinschauen“ und unterschiedliche Elemente beziehungsweise Anteile verschiedener Stoffe wie Kohlenstoff, Lipide etc. unterscheiden – „ein Novum bei einer solch hohen Auflösung“, unterstreicht Klas. „Mit unserer Technologie können wir damit in Zukunft biologische und medizinische Studien voran­treiben und hoffentlich unterschiedliche Arten von Viren untersuchen. Irgendwann wollen wir mit diesem Verfahren auch DNA mit etwa zwei Nanometern Durchmesser abbilden können“, so der Forscher.

Ein weiteres besonderes Anwendungs­potenzial bietet die von Klas entwickelte Technologie in der EUV-Litho­graphie. Hier werden winzig kleine Mikrochips mithilfe von extrem-ultra­violettem Licht hergestellt. Schon heute nutzt die Halbleiter­industrie dieses Verfahren, um mehr als zehn Milliarden Transistoren auf einen finger­nagelgroßen Chip aufzubringen. Für die Entwicklung der EUV-Lithographie wurde ein Forschungsteam von TRUMPF, ZEISS und Fraunhofer 2020 mit dem Deutschen Zukunftspreis ausgezeichnet.

Klas’ Forschung eröffnet in diesem Zusammenhang eine neue Möglichkeit der Qualitätssicherung. Denn die heraus­ragenden mikroskopischen Eigenschaften seines Systems können auch auf eine Belichtungs­maske angewandte werden. Diese wird in der Halbleiter­fertigung genutzt, um die winzig kleinen EUV-Chips herzustellen. Verbergen sich Fehler in dieser Maske, werden diese an die damit gefertigten Chips weitergegeben. Durch die EUV-Mikroskopie kann die Maske auf derlei Fehler hin untersucht werden. Schwachstellen in der EUV-Maske frühzeitig zu erkennen und somit weitere Fehler in der Fertigung zu vermeiden, spart Zeit und Geld. „Dieses Verfahren kann den Ausschuss verringern und damit zu einer nach­haltigeren Produktion führen“, erläutert Klas die Vorzüge dieser Methode.

Für seine wegweisende Forschungs­arbeit wurde Robert Klas nun mit dem „Hugo-Geiger-Preis für wissenschaftlichen Nachwuchs“ ausgezeichnet. Die Auszeichnung wird vom Freistaat Bayern und der Fraunhofer-Gesellschaft an herausragende Nachwuchsforscher vergeben. Die Preisverleihung erfolgte am 21. März in München. Insgesamt wurden drei Wissenschaftlerinnen und Wissenschaftler aus München, Freiburg und Jena geehrt.

Fh.-IOF / DE

 

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