
Joseph-von-Fraunhofer-Preis 2012 für EUV-Lithografie
Die Halbleiterindustrie steht vor der Herausforderung, immer schnellere und leistungsfähigere Chips zu liefern. Durch die nun ausgezeichnete „Next Generation Lithografie“ mit EUV-Strahlung soll das gelingen.




































